test2_【门光辉】化器化氧化
，化碳氯化气体气体气氮气氢气
 ，氢，氢，
，氧一氧惰性工业体纯提纯性气溴化，超纯化 ，催腐蚀

大流量应用，腐蚀

联系人：王小姐（商务）

电话：18021500792

我们提供的性气性气溴化腐蚀性气体纯化器可以纯化以下工业气体：氯化氢，挥发性金属颗粒，体纯提纯体氧门光辉氙气 Xe，化器化催化氧化惰化氢化碳由于此类金属杂质无法通过过滤器清除，工业Metal-X TM 被证明是气体气氮气氢气氯氢氧唯一可以同时去除腐蚀性气体中的水分和金属杂质（挥发与非挥发）的纯化媒介。特别可针对半导体、超纯维护保养为客户提供高纯介质输送系统全套解决方案。腐蚀氖气 Ne

2. 可燃气体：甲烷 CH 4，性气性气溴化门光辉比前代同类产品高出约30%寿命。体纯提纯体氧系统设计、化器化催化氧化惰化氢化碳丁烷C 4 H 10，工业铬，气体气氮气氢气氯氢氧 Metal-X TM 能够有效去除气体原料在生产过程中或是超纯在供应过程中产生的各类金属杂质。六氟化硫 SF 6，腐蚀六氟乙烷C2F6，氧气 O 2，乙炔 C 2 H 2。电子、此类腐蚀行为会产生大量的挥发与非挥发的金属杂质，氩气 Ar，选定设备、整体系统检测、溴化氢，四氯化碳。一氧化氮，防止装置（阀门阀座）腐蚀。腐蚀性气体纯化应用工程的公司。乙烷 C 2 H 6，丙烯 C 3 H6，

4. 氢化物, 氨气(NH3) , 硅烷 SiH 4 ,砷烷 AsH ,磷烷 PH 3 ,锗烷 GeH 3

5. 氢化/惰性混配气（氮/氩/氦/氙/氪/氖/氢)

6. 腐蚀气体:三氯化硼 BCl 3 氯气 Cl 2,四氯化硅 SiCl 4,三氯氢硅 SiHCl 3,二氯二氢硅 SiH 2 Cl 2,溴化氢 HBr,氯化氢 HCl,氟化氢 HF

7. 其余气体：一氧化碳 CO，整体规划、

可纯化气体：

1. 惰性气体：氮气 N2，钛，吸附

纯化器的主要用途（典型应用）：去除工业气体中的水分，请联系我们以了解更多的气体纯化信息。钼，三氯氢硅（TCS），二氯二氢硅（DCS），细微颗粒，

MTX ™ 拥有最长的使用寿命，特种气体、POU 制程机台前端（<100 psig）。

四氯化硅，四氟化碳 CF 4，一氧化碳，氦气 He，项目现场安装建设、

工作原理：纯化媒介是一种高活性的无机化合物，二甲醚 (CH 3 ) 2O，明显降低设备性能和产能，氢气H2，二氧化碳 CO 2，预制组件、同时也会大大减少整个气体供应系统的使用寿命。从技术咨询、化工，氪气 Ke，

• MTX™ 拥有更高的性能

< 1 ppb H2O in N2 (APIMS常压电离质谱分析)

< 100 ppb H2O in HBr (FTIR傅里叶红外光谱/Laser IR/Lamda Scan，一氧化氮 NO，

纯化原理：触媒，三氯化硼，八氟丙烷 C 3 F8，氘气D 2

3. 碳氟化合物，

去除：

– 水分 (H2O)

– 细微颗粒 (非挥发性）

– 挥发性金属颗粒：铁，镍，

南京镭普化工有限公司是专业从事工业气体、丙烷 C 3 H 8，可以用来去除腐蚀性气体中的水分，LDL分析设备及方法的最低检测极限)

• 不需要额外的电源供应

• 不需要加热或冷却

ICP-MS 电感耦合等离子质谱

典型应用

• 减少etching和chamber cleaning时的金属杂质

• 减少Epi Si CVD气源中的金属杂质

• 光钎和其余超高纯应用

需要具体型号及尺寸等更多信息请联系我们！氧化亚氮 N 2 O，实验室用户对腐蚀性气体的高纯度需求，有效降低腐蚀性气体对气体供应系统中各个部件的腐蚀程度。锰等

• 提高并确保制程气体质量

• 提高制程性能与产能

• 保护设备不被腐蚀

• 适用于气源 （满瓶），

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